题名:
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场地与景观设计图解 / (美)戴维·A·戴维斯,西奥多·D·沃克著 , 蔡红译 |
ISBN:
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978-7-112-11863-2 价格: CNY69.00 |
语种:
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chi |
载体形态:
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264页 图 (部分彩图) 19×26cm |
出版发行:
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出版地: 北京 出版社: 中国建筑工业出版社 出版日期: 2010 |
内容提要:
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本书包含了设计进程各阶段的图像表现方式; 手绘渲染与计算机技术相结合; 内容涉及文字、彩图、场地分析、方案图、施工文件及精美的渲染图、剖面图和立面图; 275幅全新范图; 48页彩图画廊; 作品来自近50家知名公司以及Mesa设计集团。 |
主题词:
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场地 景观 |
中图分类法:
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TU986.2-64 版次: 5 |
主要责任者:
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戴维斯 著 |
主要责任者:
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沃克 著 |
次要责任者:
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蔡红 译 |
责任者附注:
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戴维·A·戴维斯 (David A. Davis), 美国景观设计师协会 (ASLA) 会员。西奥多·D·沃克 (Theodore D. Walker), 美国景观设计师协会 (ASLA) 会员, 曾从事景观设计40余年, 并于1985年被聘为亚利桑那州立大学景观与规划学校的教师。 |