题名:	多弧离子镀沉积过程的计算机模拟 / 赵时璐著 ,
ISBN:	978 7 5024 6227 7 价格：
出版发行:	出版地：出版社：冶金工业出版社出版日期： 2013.04
内容提要:	本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟研究。全书共分13章：第1章为绪论部分；第2章为真空镀膜技术的介绍；第3章为多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础；第4章为多弧离子镀物理过程的分析；第5章为计算机模拟技术部分；第6章为数学模型的建立；第7章为程序的编制部分；第8～11章为模拟的结果部分；第12章为模拟结果的讨论与验证部分；第13章为6个模块的主要程序代码部分。本书可供从事材料表面改性，特别是从事真空镀膜技术研究开发及实际生产应用的科技工作者阅读，也可供材料表面工程专业的本科生和研究生参考。
主题词:	工业技术>金属学与金属工艺>金属学与热处理>金属腐蚀与保护、金属表面处理>腐蚀的控制与防护
中图分类法:	TG174.4.39 版次：