题名:	硅技术的发展和未来 / (法)P.希弗特，(德)E.克瑞梅尔编著 ,
ISBN:	978 7 5024 4536 2 价格：
出版发行:	出版地：出版社：冶金工业出版社出版日期： 2009.02
内容提要:	本书译自德国斯普林格出版社2004年出版的“Silicon——Evolution and Future of a Technology”，作者P. Siffert等。系统介绍了硅——地壳中含量最丰富的元素的整个发展过程，所涉及的主要内容包括硅的基本物理性质、半导体晶体材料及工业用硅的研发历史、用于电子器件和光伏发电的多晶硅技术、硅外延、薄膜、多孔层和非晶硅技术的发展、硅在研究材料缺陷研究中的作用、硅掺杂特性、硅材料中杂质特性研究、半导体功率器件、硅补偿器件、集成电路、纳电子硅技术、纳米硅光刻技术、硅传感器等。
主题词:	工业技术>化学工业>非金属元素及其无机化合物化学工业>第Ⅳ族非金属元素及其无机化合物>硅及其无机化合物
中图分类法:	TQ127.2 版次：