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题名:
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气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析 qi - gu liang xiang liu xuan zhuai ou he chang zhi bei Si3N4 ke li hun he guo cheng liu chang fen xi / 余冬玲，张小辉，吴南星著 , |
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ISBN:
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978-7-5692-7098-3 价格： CNY65.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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224页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 长春 出版社： 吉林大学出版社 出版日期： 2021 |
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内容提要:
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Si3N4陶瓷具有良好的抗氧化性、耐磨性、高导热性、抗热震性、耐碱侵蚀性、低电导率、抗熔融冰晶石润湿性等优点, 在航天航海、武器装备、核工程等领域具有广泛的应用前景。本书在阐述Si3N4陶瓷、粉体的制备技术背景的前提下, 通过建立数学模型求解Si3N4粉体运动特性, 并进行结构设计, 通过分析Si3N4粉体颗粒性能和不同空间参数对耦合场的影响规律深入地研究了气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场特性, 以及轴-径组合结构、底-壁组合结构与Si3N4颗粒混合过程之间的内在关联性等方面内容。 |
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主题词:
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氮化硅陶瓷 制备 |
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中图分类法:
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TQ174.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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余冬玲 yu dong ling 著 |
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主要责任者:
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张小辉 zhang xiao hui 著 |
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主要责任者:
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吴南星 wu nan xing 著 |