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题名:
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多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析 duo xiang liu xuan zhuai ou he chang zhi bei Si3N4 ke li wu hua guo cheng liu chang fen xi / 廖达海，宁翔，吴南星著 , |
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ISBN:
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978-7-5639-7683-6 价格： CNY56.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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126页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 北京工业大学出版社 出版日期： 2021 |
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内容提要:
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本书深入阐释多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程, 同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了系统研究。在对多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒进行总体论述的基础上, 剖析了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的黏结液雾化过程数值模拟理论, 探究了喷嘴入口结构对多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的黏结液雾化过程的影响, 探索了喷嘴旋流室结构对多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的黏结液雾化过程的影响规律, 并对喷嘴出口结构对多相流旋转耦合场制备颗粒的黏结液雾化过程的影响规律进行了解释, 还对多相流旋转耦合场制备si3N4颗粒的黏结液雾化过程数值模拟进行了实验验证。 |
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主题词:
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氮化硅陶瓷 制备 |
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中图分类法:
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TQ174.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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廖达海 liao da hai 著 |
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主要责任者:
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宁翔 ning xiang 著 |
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主要责任者:
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吴南星 wu nan xing 著 |